O primeiro equipo de produción en masa para a limpeza de ácido hidrofluórico en China trasladouse con éxito á fábrica de paneis

A limpeza de ácido hidrofluórico é unha ligazón clave no proceso de visualización. O seu efecto de limpeza afecta directamente ao rendemento final, á eficiencia e á estabilidade da estrutura do dispositivo e está relacionado coa taxa de rendemento do produto final. A limpeza de ácido hidrofluórico non só elimina as impurezas na superficie da capa activa, senón que tamén pasa a superficie, reducindo así a capacidade de adsorción das impurezas da interface. Os requisitos para a limpeza superficial son moi estritos e teoricamente non permite a presenza de partículas, ións metálicos ou adhesivos orgánicos. As capas de vapor e óxido de vapor adxunto requiren platitude a nivel atómico na superficie para garantir a fiabilidade do proceso do proceso post-procesamento.